中国集成电路布图发展概述

                                                  我国集成电路布图发展概述

2001年4月，我国颁布了《集成电路布图设计保护条例》，自此我国开始保护保护集成电路布图设计。

随后，我国的国家知识产权局根据上述条例又先后颁布了《集成电路布图设计保护条例实施细则》（2001）及相关部门规章，最高人民法院颁布了《关于开展涉及集成电路布图设计案件审判工作的通知》（2001）。这样就使得我国的集成电路布图设计保护初步形成了配套的法律法规体系。

截止到2008年12月31日，中国集成电路布图设计登记共计2097件(包括国外的企业和个人在中国申请的布图设计登记)。图1为中国集成电路布图设计登记年度分布图。如图1所示，以公开年统计，2001年-2008年间我国集成电路布图设计登记的数量基本保持了较快上升的趋势，这与我国集成电路行业近年来的发展现状相吻合。2008年，我国登记数量达到创纪录的606件，较上一年增长69.27%。这说明集成电路设计企业越来越多地利用布图设计专有权保护创新，积极申请布图设计登记。

图1

中国布图设计登记数量远超国外省市分布较为集中，2001年-2008年，已公告的全国集成电路布图设计登记共计2097件。其中，中国大陆企业及个人的布图设计登记1714件(占总量的81.7%)，中国香港和中国台湾地区布图设计登记47件(占总量的2.2%，其中台湾43件，香港4件)，国外布图登记336件(占总量的16.0%，其中美国188件、日本126件、南非8件、韩国9件、法国2件、加拿大3件)。由此可见，其他国家在我国申请集成电路布图设计登记的较少，主要集中于美国和日本(这两个国家的登记数量占全部国外登记数量的93.45%)，但国外企业最近已经开始重视这方面的布局。

图2为中国集成电路布图设计专有权省市排名图。如图2所示，国内集成电路布图设计专有权的分布主要集中在上海、江苏、北京、广东四省市。上述地区的集成电路布图设计登记的累计数量已达中国大陆各省市总量的80%，数量优势明显。上海的布图设计登记数量相对领先，这主要与上海集成电路产业链较全、设计企业相对聚集和政府政策引导有关。

图2

图3为集成电路布图设计专有权产品的结构分布图。如图3所示，已经登记的集成电路布图设计登记所涉及的产品，按结构分类主要包括Optical-IC(光电集成电路)、MOS(金属-氧化物-半导体)、Bipolar(双极)、Bi-MOS(双极-金属-氧化物-半导体)等。其中MOS类型所占比重最大，共计442件，约占总量的73%；其次为Bipolar，共计85件，约占总量的14%。

图3

截止到2008年12月31日，布图设计申请登记时，已投入商业利用的布图设计共计1374件，而申请登记时，还未投入商业利用的布图设计共计723件。在申请登记时，将近65%的布图设计已经投入商业利用，集成电路布图设计的商业利用情况总体较好。

从申报到获得证书需要多长时间

通常在3-5个月之内，视专利局处理速度而定。

一个芯片申报多个集成电路布图设计登记的好处

集成电路布图设计保护的是集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或最终产品。

因此只要是芯片中具有独立功能的、包含至少一个有源器件的模块，就可以申报一个集成电路布图登记。这样做的好处是：1、可以获得多个证书；2、打印出的集成电路布图设计较为清晰。

集成电路布图设计的保护时间

布图设计专有权的保护期为１０年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起１５年后，不再受到保护。